gostus

ГОСТ РФ

Общероссийский классификатор стандартовЭЛЕКТРОТЕХНИКА

29. ЭЛЕКТРОТЕХНИКА

1 2 3 4 5190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200439 440 441 442 443

  • ГОСТ 26239.0-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Общие требования к методам анализа
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. General requirements for methods of analysis
    Настоящий стандарт устанавливает общие требования к методам анализа полупроводникового кремния, исходных продуктов для его получения ( технический кремний, четыреххлористый кремний, хлорсиланы, двуокись кремния) и кварца
  • ГОСТ 26239.0-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Общие требования к методам анализа
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. General requirements for methods of analysis
    Настоящий стандарт устанавливает общие требования к методам анализа полупроводникового кремния, исходных продуктов для его получения ( технический кремний, четыреххлористый кремний, хлорсиланы, двуокись кремния) и кварца
  • ГОСТ 26239.0-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Общие требования к методам анализа
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. General requirements for methods of analysis
    Настоящий стандарт устанавливает общие требования к методам анализа полупроводникового кремния, исходных продуктов для его получения ( технический кремний, четыреххлористый кремний, хлорсиланы, двуокись кремния) и кварца
  • ГОСТ 26239.1-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Метод определения примесей
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. Method of impurities determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения примесей в интервалах значений массовых долей в полупроводниковом кремнии, двуокиси кремния, кварце, четуреххлористом кремнии и трихлорсилане
  • ГОСТ 26239.1-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Метод определения примесей
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. Method of impurities determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения примесей в интервалах значений массовых долей в полупроводниковом кремнии, двуокиси кремния, кварце, четуреххлористом кремнии и трихлорсилане
  • ГОСТ 26239.1-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Метод определения примесей
    Semiconductor silicon, raw materials for its production and quartz. Method of impurities determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения примесей в интервалах значений массовых долей в полупроводниковом кремнии, двуокиси кремния, кварце, четуреххлористом кремнии и трихлорсилане
  • ГОСТ 26239.2-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Методы определения бора
    Semiconductor selicon, raw materials for its production and quartz. Methods of boron determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения бора в полупроводниковом кремнии, в двуокиси кремния и кварце, в четыреххлористом кремнии и трихлорсилане и атомно-эмиссионный метод определения бора в техническом кремнии
  • ГОСТ 26239.2-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Методы определения бора
    Semiconductor selicon, raw materials for its production and quartz. Methods of boron determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения бора в полупроводниковом кремнии, в двуокиси кремния и кварце, в четыреххлористом кремнии и трихлорсилане и атомно-эмиссионный метод определения бора в техническом кремнии
  • ГОСТ 26239.2-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Методы определения бора
    Semiconductor selicon, raw materials for its production and quartz. Methods of boron determination
    Настоящий стандарт устанавливает химико-атомно-эмиссионный метод определения бора в полупроводниковом кремнии, в двуокиси кремния и кварце, в четыреххлористом кремнии и трихлорсилане и атомно-эмиссионный метод определения бора в техническом кремнии
  • ГОСТ 26239.3-84.
    действующий
    от: 01.08.2013
    Кремний полупроводниковый, исходные продукты для его получения и кварц. Методы определения фосфора
    Semiconductor selicon, raw materials for its production and quartz. Methods of phosphorus determination
    Настоящий стандарт устанавливает экстракционно-фотометрический метод определения фосфора в техническом кремнии, экстракционно-колориметрический метод определения фосфора в трихлорсилане и тетрахлориде кремния и двуокиси кремния (синтетическом кварце); нейтронно-активационный метод определения фосфора в полупроводниковом кремнии

1 2 3 4 5190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200439 440 441 442 443

23 сентября 2024:
Обновления в маркировке продуктов: новые правила от ЕЭК Читать далее
7 сентября 2024:
ГОСТ 35075-2024: требования к напиткам на основе зерна, орехов и кокоса Читать далее
5 сентября 2024:
С 1 сентября 2024 года в России вступают в силу новые ГОСТы на полиэтиленовые трубопроводы Читать далее